Siyah Renkli Yüksek Verimlilik Paslanmaz Çelik Saat Kayışı Watch Case PVD Vakum Kaplama Makinası

Ürün ayrıntıları:

Menşe yeri:	Çin
Marka adı:	JXS
Sertifika:	CE

Ödeme & teslimat koşulları:

Min sipariş miktarı:	1 Set
Fiyat:	As per configuration
Ambalaj bilgileri:	Tahta sandık, plastik film
Teslim süresi:	70 iş günü
Ödeme koşulları:	L/C, T/T
Yetenek temini:	100 setleri/yıl

İletişim

Detaylı ürün tanımı

Odası malzeme:	Paslanmaz çelik 304	Kontrol sistemi:		Garanti:	1 yıl	Satış Sonrası:	Yurtdışı Servis Mühendisi
Yapısı:	Dikey ön açık	kaplama rengi:	Altın, Gül Altın, Mavi, Gri, Siyah
Gerilim:	380V, 50Hz veya Özel Made	Oda boyutu:	özel yapım
Pompa Grubu:	Mekanik Pompa + Kökler Pompa + Difüzyon / Turbo Pompa	Kaplama Teknolojisi:	Çok Yaylı veya Çok Yaylı + Magnetron Püskürtme veya Magnetron Püskürtme
Vurgulamak:	thermal evaporation coating unit , dlc coating machine

Çalışma Prensibi: Püskürtme biriktirme, püskürtme yoluyla ince film biriktirme fiziksel bir buhar biriktirme (PVD) yöntemidir. Bu, malzemeyi silikon bir gofret gibi bir "substrat" üzerine bir kaynak olan bir "hedeften" atmayı içerir. Yeniden yapılanma, biriktirme işlemi sırasında biriktirme malzemesinin iyon veya atom bombardımanı yoluyla yeniden yayılmasıdır. Hedeften atılan püskürtülmüş atomlar, tipik olarak onlarca eV'ye (100.000 K) kadar geniş bir enerji dağılımına sahiptir. Püskürtülen iyonlar (tipik olarak dışarı atılan partiküllerin sadece küçük bir kısmı iyonize edilir - yüzde 1 sırasına göre) hedeften düz çizgiler halinde balistik olarak uçabilir ve alt tabakalara veya vakum odasına enerjik olarak çarpabilir (yeniden salınımlara neden olabilir). Alternatif olarak, daha yüksek gaz basınçlarında, iyonlar, bir moderatör olarak hareket eden ve dağınık olarak hareket eden, substratlara veya vakum odası duvarına ulaşan ve rastgele bir yürüyüşten sonra yoğunlaşan gaz atomlarıyla çarpışır. Yüksek enerjili balistik etkiden düşük enerjili ısıl harekete kadar tüm alana arkaplan gazı basıncı değiştirilerek erişilebilir. Püskürtme gazı genellikle argon gibi etkisiz bir gazdır. Verimli momentum transferi için, püskürtme gazının atom ağırlığı hedefin atom ağırlığına yakın olmalıdır, bu nedenle hafif elementlerin püskürtülmesi için neon tercih edilirken ağır elementler için kripton veya ksenon kullanılır. Bileşiklerin püskürtülmesi için reaktif gazlar da kullanılabilir. Bileşik, işlem parametrelerine bağlı olarak hedef yüzeyde, havada veya substrat üzerinde oluşturulabilir. Püskürme birikimini kontrol eden birçok parametrenin kullanılabilirliği onu karmaşık bir işlem haline getirir, ancak aynı zamanda uzmanlara filmin büyümesi ve mikro yapısı üzerinde büyük ölçüde kontrol sağlamasına izin verir.